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发布:2020-07-20 22:21,更新:2010-01-01 00:00







普旭真空泵维修离子镀膜技术


PVD镀膜(离子镀膜)技术,其具体原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。

PVD镀膜膜层的特点,采用PVD镀膜技术镀出的膜层,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系数)、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点,膜层的寿命更长;同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。


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普旭真空泵维修在信息薄膜加工中的应用

真空技术在信息薄膜加工中的应用

近半个世纪的历史表明,电子学器件的发展对人类社会起了很大的推动作用,每一种新的电子器件出现都对科学技术和生产的发展起了积极的促进作用。电子管的诞生是真空科学技术充分发展的结果。微电子器件的发展是基于材料的超纯和微细加工高精技术的提高,其中很多加工过程都与真空技术有关。

微电子器件是现代高速计算机和个人计算机的基础,当今在某些发达国家,微电子和计算机工业已经超过了能源、材料、交通和钢铁工业而占国民经济产值的前位。在电子工业和计算机工业的发展中,真空科学与技术做出了重要贡献。

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近些年北京大学和科学院北京真空物理实验室重点研究有机复合薄膜的超高密度信息存储器件,其制备的关键技术是纳米厚度的高质量功能薄膜。当今的薄膜形成过程中能够保持真空纯洁环境,故可以得到高质量的薄膜。物理气相沉积(PVD)技术主要有蒸发、溅射镀、离子镀、分束外延和离子团束镀等。

在分析了真空方法制备有机功能薄膜的几种技术后,经比较认为,离子团束(ICB)沉积技术用于制备有机功能薄膜是适用的。它是将材料蒸发经过绝热膨胀过程,电离过程形成荷电原子团,经历加速被沉积到基底上。原子在基底表面具有较大的迁移率,这有利于薄膜的成核和晶粒生长,形成高质量的薄膜,通过控制绝热过程,电离电压,加速电压和基底温度可以制成晶体、多晶或无定形薄膜。

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普旭真空泵维修的应用技术


用离子团束和高真空沉积技术研制了用于超高密度信息存储的有机和金属有机纳米薄膜,其中主要有两类:一类是银/有机(如Ag-CPU)复合薄膜,用扫描隧道显微镜(STM)的电压脉冲写入信号斑直径为10nm,可以稳定地写入和读出0和1信号。

用半导体激光器薄膜读写装置(波长为780nm)研究了Ag-CPU薄膜的光学存储特性,结果表明光脉冲10.4mW,宽10μs写入信号;7.0mW,宽1ms光脉冲可以擦除信号;1.1mW可以稳定读取信号。

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